2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收，該光刻機光刻分辨力達到22nm,結(jié)合多重曝光技術后，可用于制造10nm級的芯片。下列對于光的認知正確的是（ ）
【答案】A；B
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/5/27 14:0:0組卷：22引用：2難度：0.8
